塩基フリーなN-シリルエナミンの合成に用いられるルテニウム触媒

ルテニウム錯体である[(DmpSR')RuCl(P-(i-Pr)₃)]は，イミンのN-シリル化を触媒することが報告されています¹⁾ 。この反応は触媒がシランのSi-H結合を活性化するため塩基を添加する必要がなく，室温かつ低触媒量でも進行するという特徴があります。イミン1とジメチルフェニルシランの溶液を，[(DmpSR')RuCl(P-(i-Pr)₃)]とNaBAr^F₄を含む溶液に滴下し反応させることで，N-シリルエナミンである2が主生成物として，3が副生成物として得られます。また，この触媒を用いた，インドール類の位置選択的なC-Hシリル化反応も報告されています²⁾ 。

関連製品

C3327

[(DmpSR')RuCl(P-(i-Pr)₃)]

D2196

ジメチルフェニルシラン

S0447

NaBAr^F₄

引用文献

• 1) Direct Catalytic Access to N-Silylated Enamines from Enolizable Imines and Hydrosilanes by Base-Free Dehydrogenative Si-N Coupling
  • J. Hermeke, H. F. T. Klare, M. Oestreich, Chem. Eur. J. 2014, 20, 9250.
• 2) Cooperative Catalytic Activation of Si-H Bonds by a Polar Ru-S Bond: Regioselective Low-Temperature C-H Silylation of Indoles under Neutral Conditions by a Friedel-Crafts Mechanism
  • H. F. T. Klare, M. Oestreich, J. Ito, H. Nishiyama, Y. Ohki, K. Tatsumi, J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 3312.

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