本品1はエーテル，エステル，カルバマートなどの保護基を温和な条件下で選択的に脱保護することができるルイス酸です1)。R. K. Boeckman Jr.らは，その選択性をMOMOR ≈ MEMOR > Boc > Cbz ≈ tBuOR > PhCH2OR >
CH2=CHCH2OR > tBuO2CR， 2ºalkylOR > PhCH2O2CR ≈ 1ºalkylOR >> alkylO2CRと報告しています。また，1aと1bの反応性の差についても検討しており，1bは1aに比べ活性が弱まることがわかっています1a)。そのため，1bは天然物をはじめとする複雑な構造を有する化合物の合成において，より高い選択性を必要とする場合に利用されています2)。
なお，1は保護基としてよく用いられるTBDMS，TBDPSやPMB基には不活性です3)。
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選択的脱保護剤 / Selective Reagents for Cleavage of Protecting Groups
No.107(2000/07発行)
- B2132
- B-Bromocatecholborane (1a)
- C1669
- B-Chlorocatecholborane (1b)
MOM = Methoxymethyl
MEM = 2-Methoxyethoxymethyl
Boc = tert-Butoxycarbonyl
Cbz = Benzyloxycarbonyl
TBDMS = tert-Butyldimethylsilyl
TBDPS = tert-Butyldiphenylsilyl
PMB = p-Methoxybenzyl
MEM = 2-Methoxyethoxymethyl
Boc = tert-Butoxycarbonyl
Cbz = Benzyloxycarbonyl
TBDMS = tert-Butyldimethylsilyl
TBDPS = tert-Butyldiphenylsilyl
PMB = p-Methoxybenzyl
文献
- 1)Mild and selective reagents for cleavage of ether, ester, and carbamate protecting groups
- 2)Synthesis of prostaglandin F2α photoaffinity probes
- 3)Synthetic studies on spinosyn A.
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また，地域等によって販売製品が異なります。製品詳細ページが表示されない場合は，販売は行っておりませんのでご了承ください。
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