新しいヒドロキシ基の保護基：スルホニルカルバマート基

真鍋らは，新しいヒドロキシ基の保護基としてスルホニルカルバマート基を開発し，その有用性を報告しています。それによれば，スルホニルカルバマート基は中性条件下，アルコールをイソシアン酸p-トルエンスルホニルと反応させることにより簡単に導入できます。この保護基は強塩基性条件下では安定ですが，ピリジン—メタノールのような温和な塩基性条件下では脱保護が進行するというユニークな性質を持っています。なお，カルバマート部位の窒素原子をアルキル化することにより，強塩基性条件下でも脱保護が可能になります。この方法は，温和な条件下，簡便な操作で保護—脱保護を行うことができるため，幅広い基質に適用可能です。