Published TCIMAIL newest issue No.197
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CAS RN: 86233-74-1 | Produkte #: C2610
Copper(I) Hexafluoro-2,4-pentanedionate 1,5-Cyclooctadiene Complex
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Reinheit: >95.0%(T)
Synonyme
- 1,5-Cyclooctadiene(hexafluoro-2,4-pentanedionato)copper(I)
Produktdokumente:
| Einheit | Stückpreis | Belgien | Japan* | Menge |
|---|---|---|---|---|
| 1G |
€92.00
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Kontaktieren Sie uns | 28 |
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| 5G |
€360.00
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Kontaktieren Sie uns | 22 |
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*In Japan verfügbare Lagerbestände werden in 1 bis 2 Wochen geliefert. (unter Ausschluss von regulierten Artikeln und Trockeneislieferungen).
| Artikel # | C2610 |
| Reinheit / Analysenmethode | >95.0%(T) |
| Summenformel / Molekülmasse | C__1__3H__1__3CuF__6O__2 = 378.78 |
| Physikalischer Zustand (20 °C) | Solid |
| Lagerungstemperatur | Refrigerated (0-10°C) |
| Unter Inertgas lagern | Store under inert gas |
| Zu vermeidende Bedingungen | Air Sensitive,Heat Sensitive |
| CAS RN | 86233-74-1 |
| Reaxys Registrierungsnummer | 16594364 |
| PubChem-Stoff-ID | 253659579 |
| MDL-Nummer | MFCD00156517 |
Spezifikation
| Appearance | Light yellow to Yellow to Green powder to crystal |
| Purity(Chelometric Titration) | min. 95.0 % |
Eigenschaften
| Schmelzpunkt | 100 °C |
GHS
Verwandte Gesetze:
Transportinformationen:
| HS-Nr. (Import / Export) (TCI-E) | 2914199090 |
Anwendung
Preparation of copper films by chemical vapor deposition (CVD)
References
- Mechanisms of copper chemical vapor deposition
- Chemical vapor deposition of copper from 1,5-cyclooctadiene copper(I) hexafluoroacetylacetonate
- Chemical vapor deposition of copper via disproportionation of hexafluoroacetylacetonato (1,5-cyclooctadiene)copper(I), (hfac)Cu(1,5-COD)
PubMed Literatur
Artikel / Broschüren
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